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真空均質乳化設備

真空均質乳化設備

50L--2000LEV、CM系列真空均質乳化設備

用途：

EV、CM型系列乳化鍋是我廠制造的新型真空乳化裝置，該裝置吸收了國內外同類產品的優點，由有關專家成功設計，結構新穎，乳化效果好，能耗小，使用可靠，鍋內外拋光處理，美觀大方。

EV型特點：

乳化鍋乳化過程是在全密封條件下進行的，鍋內物料通過下均質機的高速內循環剪切混合乳化，上刮板攪拌器在運轉時產生離心作用，使四氟刮板緊貼鍋壁，有效的解決了鍋壁沾料問題，有效防止了灰塵和微生物的污染，乳化后的產品光亮細膩，顆粒直徑小可達3~5μm。
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